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高接著易剝離UV膠帶
SELFA系列

什么是SELFA系列

SELFA是同時(shí)具備高接著性與易剝離的兩種特性的UV假貼易解離膠帶。UV照射后膠帶與被著體間產(chǎn)生氣體,可以在零受力的情況下輕易地撕掉膠帶,即使是超薄研磨的晶圓也不會(huì)受到任何損傷。積水化學(xué)擁有高耐熱性的單面HS系列,高耐熱的雙面臨時(shí)鍵合材料HW系列,以及高耐藥液性的MP系列等的產(chǎn)品系列,我們可以從中選擇最適合您應(yīng)用場(chǎng)景的型號(hào)進(jìn)行提案。

SELFAイメージ

SELFA系列的特征

憑借高耐熱性及特殊剝離技術(shù)來實(shí)現(xiàn)嶄新的半導(dǎo)體工藝

適用無鉛回流焊等
新的工藝

セルファシリーズ

適用于超薄器件

寬泛的工藝窗口

耐熱性

通過氣體的
產(chǎn)生實(shí)現(xiàn)無損傷的剝離

SELFAシリーズの特長(zhǎng)イメージ
軽剝離,低殘?jiān)? /> <h4>即使在高溫后也能夠?qū)崿F(xiàn)無殘膠</h4>
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一般UVテープ
一般UV膠帶
SELFA
SELFA
一般UV膠帶 SELFA
耐熱性 ×(150度以下) 220℃ @ 2hr + Reflow
殘膠 × 無殘膠

單面耐熱SELFA HS系列

在諸如回流焊等封裝的熱制程中保護(hù)器件

SELFA HS

特征

  • 優(yōu)良的耐熱性,耐藥性
  • 同時(shí)兼?zhèn)鋸?qiáng)粘著+低殘膠兩種性能

使用例

SELFA HS 使用例
SELFA HS 使用例

產(chǎn)品規(guī)格

品名 類型 高耐熱 剝離方法 基材種類 器件側(cè)
粘著種類
支持劑側(cè)
粘著種類
UV波長(zhǎng)
(nm)
UV照射量
(mj/cm2)
用途案例
HS 單面 剝離 耐熱膜 UV固化粘著劑 - 405 3000 reflow

雙面耐熱SELFA HW系列

實(shí)現(xiàn)干膜式的干法臨時(shí)鍵合工藝,提升生產(chǎn)性

SELFA HW

特征

  • 干膜式的臨時(shí)鍵合使操作更加安全穩(wěn)定
  • 通過產(chǎn)生氣體實(shí)現(xiàn)無損傷剝離
  • 優(yōu)良的耐熱性,耐藥性

使用例:傳感器(CIS,指紋等)防止晶圓翹曲

SELFA HW 使用例
SELFA HW 使用例
SELFA HW 使用例
SELFA HW 使用例

產(chǎn)品規(guī)格

品名 類型 高耐熱 剝離方法 基材種類 器件側(cè)
粘著種類
支撐劑側(cè)
粘著種類
UV波長(zhǎng)
(nm)
UV照射量
(mj/cm2)
用途例
HW 兩面 剝離
氣體剝離
耐熱膜 UV固化粘著劑 氣體產(chǎn)生 405
254
3000
12000
玻璃支撐

測(cè)試結(jié)果

背部研磨測(cè)試

測(cè)試條件 結(jié)果
晶圓厚度
700μm ? 50~30μm

邊緣部分

BGテスト結(jié)果

耐藥性測(cè)試

玻璃+雙面SELFA+晶圓貼合后3小時(shí)進(jìn)入測(cè)試實(shí)施

Acid
(SC2:HCl+H2O2+H20):3時(shí)間
Base
(2.38% TMAH):3時(shí)間
無Pre-UV
Acid Pre-UV無し イメージ

邊緣浮起

Acid Pre-UV無し イメージ2
Base Pre-UV無し イメージ

邊緣浮起

Base Pre-UV無し イメージ2
有Pre-UV
Acid Pre-UV有り イメージ

端部OK

Acid Pre-UV有り イメージ2
Base Pre-UV有り イメージ

端部OK

Base Pre-UV有り イメージ2

耐熱測(cè)試

a)
220℃×2小時(shí)
b)
260℃無鉛回流焊
條件

熱板烘烤

耐熱性テスト ホットプレート 耐熱性テスト 220℃×2時(shí)間グラフ
耐熱性テスト 260℃リフローグラフ
玻璃+雙面SELFA+晶圓貼合后進(jìn)行耐熱性測(cè)試 220℃×2時(shí)間 実施後

無變化:2小時(shí)OK

260℃リフロー 実施後

無變化:3次OK

UV自行剝離膠帶用于化學(xué)鍍金UBM工藝 SELFA-MP

電鍍工程中的背面保護(hù)用的膠帶,UV照射后產(chǎn)生GAS,可以從接著體上剝離開來。

SELFA MP

特征

  • UV照射后粘著劑自行產(chǎn)出氮?dú)馐拐沉ο陆?,可在晶圓不受外力的情況下實(shí)現(xiàn)自行剝離。
SELFA MP 特長(zhǎng)

用途

晶圓化學(xué)鍍UBM時(shí)的背面保護(hù)膜、防止晶圓在剝離中受損

SELFA MP 用途
SELFA MP 用途

用途例

  • 鍍UBM的工藝適用
  • 前處理(alkali堿溶液,PH9)
  • 后處理(強(qiáng)酸,強(qiáng)堿)
  • 鍍金屬處理(Ni,Au等)

特性

一般物性

項(xiàng)目 單位
膠帶厚度 基材 25μm
粘著劑 30μm
項(xiàng)目 單位 SUS Si Wafer
粘著力 初期 N/25mm 15.5 14.1 10.5
UV照射后 N/25mm 0 0 0
  • 粘合力:180度剝離  UV照射:1000MJ

晶圓/芯片制造工藝相關(guān)產(chǎn)品一覽

產(chǎn)品
分類
產(chǎn)品名 特征
UV假貼易解離膠帶 耐熱,高附著力,易剝離的UV膠帶,用于半導(dǎo)體工藝
【SELFA HS】
結(jié)合了耐半導(dǎo)體工藝特性+低殘膠的UV假貼易解離膠帶。在各種PKG制造過程中可保護(hù)器件表面并抑制翹曲。
UV假貼易解離膠帶 高耐熱,高粘附力,易剝離的雙面UV膠帶,用于臨時(shí)鍵合工藝
【SELFA HW】
結(jié)合了耐半導(dǎo)體工藝特性+低殘膠的UV假貼易解離膠帶。用于玻璃乘載工藝時(shí),保持高平坦度且兼顧操作使用時(shí)的安全。
UV假貼易解離膠帶 UV自行剝離膠帶用于化學(xué)鍍金UBM工藝
【SELFA-MP】
具有高耐化學(xué)性和低殘留性的UV剝離膠帶;透過UV照射產(chǎn)生氣體,剝離時(shí)可減少對(duì)設(shè)備的損傷。